阿斯麦(ASML)2022秋季校园招聘

纸玫瑰

阿斯麦(ASML)2022秋季校园招聘

路演：10月22日 12:00-17:00

华中科技大学 光电信息大楼B2门前广场

宣讲会：10月22日 18:30-21:30

华中科技大学 光电信息大楼C117

总部位于荷兰的阿斯麦(ASML)是全球芯片光刻设备市场领导者，许多热门电子产品都有采用 ASML 设备制造的芯片。ASML的愿景是通过我们的技术来驱动人类更好的生活质量。ASML在全球16个国家设有70个办公室，员工超过28,000人。ASML在中国的员工超过1000人，于上海、北京、天津、大连、武汉、西安、无锡、南京、合肥、厦门等12个城市设有客户支持办公室，此外在深圳设有计算光刻(computational lithography)软件研发中心(Brion睿初科技)，北京有电子束量测（eBeam）设备研发中心（HMI汉民微测），为中国地区的客户提供全光刻解决方案。

Brion(睿初科技)成立于美国硅谷，是全球“计算光刻” (computational lithography)技术的提出者和领导者,其核心是利用计算机集群软件计算技术，通过建模、仿真、数据分析和优化等手段解决半导体制造过程中的纳米级掩膜修复、芯片设计/制造缺陷检测与矫正等难题。中国地区在深圳、上海、武汉均设有办公室。

HMI（汉民微测科技）成立于美国硅谷，是全球先进半导体制程“图像验证系统”的领导者，以优秀的跳跃式扫描检测及稳定的电子枪技术闻名世界。

两家企业分别与2007年和2016年与ASML 实现战略合并，通过三方的技术衔接与创新，协同支撑光刻设备向更先进节点制程上的持续推进，为全球知名半导体制造商提供全方位的光刻解决方案。

作为全球半导体行业的领导者，ASML一直推崇挑战求精(Challenge)，合作共进(Collaborate)和关爱致远(Care)的“3C”文化，致力于为员工打造最佳的工作环境，让全球优秀的工程师乐于在此工作、交流、学习和分享。ASML开放、尊重与创新导向的企业文化，不仅促进员工与同侪及主管间的率直讨论、相互学习，更让ASML能够持续维持技术领先优势。ASML 提供的是一条长远的职涯规划，让公司同仁能在一个重视永续学习的企业文化和优渥的福利环境中工作成长。

了解更多职位、福利和企业文化详情，请关注

微信公众号：ASML阿斯麦光刻


网申直投链接：http://xyz.51job.com/External/Apply.aspx?CtmID=5743608


了解更多空中宣讲会及直播详情，请关注


空中宣讲会：9月16日 18:30
http://tv.51job.com/redirect.aspx?key=H6Q4S


直播：9月23日 18:30  https://ilive.51job.com/live/player?liveid=379&from=qrcode

直播： 9月27日18:30
https://ilive.51job.com/live/player?liveid=381&from=qrcode


直播：9月29日 18:30
https://ilive.51job.com/live/player?liveid=382&from=qrcode


招聘岗位：

光刻机设备 （Scanner)                

客户服务工程师        
工作地点：上海̖/北京̖/广州/天津
成熟机型客户服务工程师
工作地点：上海/天津
现场应用工程师
工作地点：上海/天津/广州/深圳/南京/武汉

电子束量测 (eBeam)

电子光学工程师
工作地点：北京
电子工程师
工作地点：北京
现场应用工程师
工作地点：上海/合肥/武汉/成都/广州

计算光刻（Computational Lithography)        

修正算法工程师
工作地点：武汉/深圳
模型算法工程师
工作地点：武汉/深圳
软件测试开发工程师
工作地点：武汉/深圳
C++软件开发工程师
工作地点：武汉/深圳
前端开发工程师
工作地点：武汉/深圳
Java开发工程师
工作地点：武汉/深圳
产品工程师
工作地点：武汉/深圳
现场应用工程师
工作地点：武汉/上海

软糖

宣讲会：10月22日 18:30-21:30
华中科技大学 光电信息大楼C117

纸玫瑰

Brion(睿初科技)成立于美国硅谷，是全球“计算光刻” (computational lithography)技术的提出者和领导者,其核心是利用计算机集群软件计算技术，通过建模、仿真、数据分析和优化等手段解决半导体制造过程中的纳米级掩膜修复、芯片设计/制造缺陷检测与矫正等难题。中国地区在深圳、上海、武汉均设有办公室。

雨花开

Brion(睿初科技)成立于美国硅谷，是全球“计算光刻” (computational lithography)技术的提出者和领导者,其核心是利用计算机集群软件计算技术，通过建模、仿真、数据分析和优化等手段解决半导体制造过程中的纳米级掩膜修复、芯片设计/制造缺陷检测与矫正等难题。中国地区在深圳、上海、武汉均设有办公室。